“龙芯架构？”
“这份方案书好啊，这一款架构已经有产品了，早已垄断全球市场，拿去CES电子消费展正合适。”
递给其他审核专家也看看，
大家都一致同意。
龙芯公司的产品值得信赖。
EDA软件也是龙芯公司开发的，
早就是内定的展品，
不用写方案书。
算起来，这是龙芯公司的第二款高科技。
真是一家了不起的企业！
接着再往下审核，
这位专家眼睛再度发亮！
1nmAI芯片设计方案书？
这个标题，
让他直接震惊了！
连忙给其他专家查看。
十二个专家都看了一遍，
一致认为，
这份方案书确实了不起，
可是眼下距离展览时日不多，
想要在这么短的时间内设计出来，
难如登天！
在场的专家心中，未免都觉得有些可惜。
然而，
当看完这两份方案书，
准备再装回到文件袋当中去的时候，
忽然发现里面还有一个说明材料，
拿出来一看，
这些专家纷纷惊呆了！
原来1nmAI芯片已经设计出来了，
还得到了许老，赵所长，郑博三位权威专家的一致认可！
再也没有任何疑虑。
专家组十二名成员纷纷没有话说，
这份方案书直接入选。
当天，
两百多分方案书审核下来，
最后选择出来的只有两份方案书，
就是龙芯公司提交上来的。
再加上原先内定的龙芯EDA软件，
好家伙！
这次CES电子消费展，夏国三件展品竟然来自同一家企业。
其实，
他们不知道的是，
不仅来自同一家企业，
还出自同一个人的手笔。
……
很快。
刘主任得到这个消息，欣喜若狂，
马上打电话过来通知，
当王爱国进来向他汇报的时候，
叶龙丝毫没有感觉到惊讶，
他提交的两份方案书，选上很正常，选不上才值得让人惊讶呢。
经过这几天的努力科研，
光源系统他终于搞定。
他研发的这款EUV光刻机，使用的光源模块比起世界上任何一种都要先进。
只要对光刻机有一定了解的都知道，
EUV光刻机又叫做极紫外光光刻机。
之所以如此命名，
就是因为荷国阿斯麦公司研发的EUV光刻机，使用的光源就是极紫外光。
这种光源非常独特，
波长短，
能量足够，
曝光均匀。
最重要的一点，
就是波长短！
这一点尤为重要，
几乎决定EUV光刻机的水准！
波长越短，可曝光的特征尺寸就越小;
用白话来解释，
波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，能够实现的电路图尺寸也就越小。
可见光，g线:436nm
紫外光(UV)，i线:365nm
深紫外光(DUV),KrF准分子激光:248nm,ArF准分子激光:193nm
极紫外光(EUV)，10~15nm
以上这四种类型，是光刻机光源模块采用的四种光源。
前面三种类型的光源，夏国已经全部掌握。
只有第四种，
极紫外光，难度极高，
目前为止也只有米国掌握。
荷国光刻机巨头，阿斯麦公司，
制造的EUV光刻机，
光源模块也是直接从米国买过来的。
使用极紫外光，光刻5nm芯片自然没有问题，
可是3nm芯片，
甚至2nm芯片，
乃至1nm芯片，
就完全不行。
必须要波长更短的光源才可以实现。
而叶龙抽奖的时候，已经获得这种光源获得方式：
电子束光源技术！
没错！
顾名思义，
这种光源完全是电子束发出的光线。
波长与极紫外光相比，
尺寸小了至少三倍！
波长只有3~5nm，制造1nm芯片电路图都毫无压力。
再说光线能量问题。
能量越大，绘制芯片电路图的时候，曝光时间就越短。
这样的话，
不仅能够提升生产效率，
更为关键的是，
期间出现问题的几率也就越小。
而电子束光源，
说白了就是高速运动的电子束，产生的能量可想而知！
比起极紫外光，
能量至少提高十倍！
最后再说曝光能量均匀分布的问题。
这就和光源平行度有很大的关系了。
极紫外光平行度可以达到90%，
这个数据已经非常恐怖了！
可与电子束光源相比，
双方就完全不是一个等级了。
因为电子束光源平行度能够达到100%，每个电子的运行方向和速度完全一致，
可以说是最完美的平行光。
绘制芯片电路图的时候，光线完全均匀照射，曝光能量自然也是相当均匀的。
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第三更。